Британская компания GEW выпускает на рынок Excimer — новые УФ-лампы, использующие диэлектрический барьерный разряд для создания квазимонохраматического вакуумного УФ-излучения (обычно 172 нм). Такое излучение обычно используется для матирования поверхностного покрытия материала в случаях, когда отсутствие в нем матирующей добавки может чрезвычайно улучшить коррозионную стойкость и прочность финального продукта. При этом уровень глянца определяется оператором — он может «за секунды» переключаться с матовой поверхности (до 2 G.U.) на глянцевую (80 G.U. и выше).
Новые лампы также можно использовать для изменения поверхностного натяжения материала (улушается адгезия) и для его очистки (для медицины и полупроводниковой индустрии).
УФ-лампы Excimer могут выпускаться с рабочей шириной от 12 до 230 см. Длина волны излучения — 222 и 308 нм. При необходимости GEW предлагает вариант сушки с камерой с азотом и сопутствующей системой управления.
Комментарии
Оставить свое мнение первым